硅碳復(fù)合材料高速分散機(jī)，硅碳復(fù)合材料分散機(jī)，多孔納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī)，是從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散乳化，經(jīng)過(guò)高頻的循環(huán)往復(fù)，z終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

利用可聚合性單體和交聯(lián)劑作為硅的研磨介質(zhì)，對(duì)納米硅表面進(jìn)行疏水化處理，然后加入炭黑及添加劑，通過(guò)高速剪切分散將納米硅研磨液分散在聚烯醇的水溶液中形成O/W型乳液，通過(guò)微懸浮聚合，得到硅/高分子復(fù)合微球，把納米硅固定在高分子微球內(nèi)部，然后進(jìn)行離心分離、干燥、高溫?zé)崽幚恚玫戒囯x子電池用硅碳復(fù)合負(fù)極材料

硅碳復(fù)合材料高速分散機(jī)的分散效果 影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出CRX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。

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參數(shù)  

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和z終產(chǎn)品的要求。

納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī)，多孔納米硅碳復(fù)合材料分散機(jī)，硅碳復(fù)合材料分散機(jī)

• GRS2000小型納米白炭黑管線式分散機(jī)
• GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機(jī)
• GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機(jī)
• GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機(jī)
• GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機(jī)
• GRS2000納米白炭黑管線式分散機(jī)
• GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)
• GRS2000化學(xué)肥料高剪切乳化研磨分散機(jī)
• GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)
• GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機(jī)